CVD / PVD процесс камералары өчен югары сафлыклы алюминий оксиды керамик боҗрасы
St.Cera керамик боҗрасы CVD (Химик пар утырту) һәм PVD (Физик пар утырту) процесс камераларында куллану өчен махсус эшләнгән. 99,8% югары сафлыклы алюминий оксидыннан (Al₂O₃) җитештерелгән бу боҗра плазманы чикләү һәм камера стеналарын эрозиядән саклау өчен камера астары, фокус боҗрасы яки процесс комплекты компоненты булып хезмәт итә. Материал плазмага бик яхшы каршылык, югары диэлектрик ныклык (15 × 10⁶ V/m) һәм 1600°C кадәр термик тотрыклылык бирә, агрессив фтор нигезендәге плазма мохитендә озак хезмәт итү вакытын тәэмин итә. Төгәл үлчәмле түземлелек (ID/OD буенча ±0,05 мм) һәм яссылык (≤10 мкм) пластина кырыеның тотрыклы урнашуын тәэмин итә, утырма бердәмлеген яхшырта һәм кисәкчәләр барлыкка килүен киметә.
Спецификацияләр (99,8% Al₂O₃ нигезендә):
| Милек | Бәя |
| Материал | 99,8% алюминий оксиды (фил сөяге) |
| Тыгызлык | 3,93 г/см³ |
| Су сеңдерү | 0% |
| Бөгелү көче | 361 МПа |
| Сыну чыдамлыгы | 3–4 МПа·м¹/² |
| Виккерс катылыгы | 16 ГПа |
| Янг модуле | 380 ГПа |
| Җылылык үткәрүчәнлеге | 32 Вт/м·к |
| Җылылык киңәюе (25–1000°C) | 7.2×10⁻⁶/℃ |
| Диэлектрик көч | 15×10⁶ В/м |
| Махсус каршылык | >10¹⁴ Ω·см |
| Максималь эш температурасы | 1600°C |
Кушымталар:
- · CVD камерасының фокус боҗралары һәм кыр боҗралары
- · ПВД камерасы калкан боҗралары һәм кыскыч боҗралары
- · Офорт камерасы астарлары һәм каплагыч боҗралар
- · Диэлектрик эшкәртү системаларында плазма чикләү боҗралары
Җитештерү процессы:
Изостатик пресслау → яшел эшкәртү → 1600°C температурада блендерлау → CNC ID/OD тарту → өслек белән эшкәртү → ультратавышлы чистарту → 100% CMM тикшерүе. Өслекнең бик шома эшләнеше (Ra ≤0.4 мкм) кисәкчәләрнең ябышуын минимальләштерә.
Сыйфат контроле:
- · 100% үлчәм тикшерүе (ID, OD, калынлык, яссылык)
- · Өслек микро-ярыкларын буяуның үтеп керүче матдәсен тикшерү
- · ASTM D149 буенча диэлектрик ныклык сынауы
- · 20× микроскоп астында күренерлек төс үзгәреше яки порошоклык юк
Металл яки кварц боҗраларына караганда өстенлекләре:
- · Фтор плазмасындагы алюминий боҗраларга караганда 5–10 тапкыр озаграк гомер озынлыгы
- · Нечкә пленкаларда металл пычрануы юк
- · Кварцка караганда плазмага каршылыгы югарырак (эрозия чокырлары юк)
- · Озак вакыт кулланылганнан соң да электр изоляциясен >10¹⁴ Ω·см саклый
Альтернатив материал — Кремний нитриды (Si)₃N₄):
Тагын да югарырак сынуга чыдамлык (6,2 МПа·м¹/²) һәм яхшырак термик шокка чыдамлык (киңәю коэффициенты 3,2×10⁻⁶/℃) таләп итә торган кушымталар өчен Si₃N₄ боҗралары бар. Ләкин алюминий оксиды күпчелек CVD/PVD кушымталары өчен экономиялерәк. Зинһар, заказ биргәндә материалга өстенлек бирегез.
Үзгәртү:
- · Монтажлау өчен тишекләр, баскычлы профильләр яки каршы тишекләр
- · Плазмага каршы торучанлыкны арттыру өчен Y₂O₃ белән капланган өслек (ихтыярый)
- · Деталь номерын / партия кодын лазер белән гравировкалау
Искәрмә:Югарыдагы мәгълүматлар бирелгән Al₂O₃ үзлекләр таблицасына туры килә. Si₃N₄ боҗралары өчен бирелгән аерым Si₃N₄ мәгълүмат таблицасын карагыз.
